Show simple item record

dc.contributor.authorДанилин Борис Степанович
dc.date.accessioned2016-02-22T12:35:03Z
dc.date.available2016-02-22T12:35:03Z
dc.date.issued1987
dc.identifier.isbn
dc.identifier.issn
dc.identifier.urihttp://ir.nmu.org.ua/handle/GenofondUA/55152
dc.description.abstractАннотация издательства: В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам, используемым для откачки химически активных газов; рассмотрены и сопоставлены основные виды насосов.
dc.language.isoRussian
dc.publisherМашиностроение
dc.subjectТехника
dc.subjectTechnique
dc.subject.ddc
dc.subject.lcc
dc.titleВакуумные технологические процессы и оборудование микроэлектроники
dc.typeother
dc.identifier.aichWY2WFAT5K3VTR6TDWLZFDUVAYOZTNEOX
dc.identifier.crc32C6567987
dc.identifier.doi
dc.identifier.edonkey64BCC58CB418D3E40ED1DD85E751A391
dc.identifier.googlebookid
dc.identifier.openlibraryid
dc.identifier.udk
dc.identifier.bbk
dc.identifier.libgenid51141
dc.identifier.md5807F147407832BCF9678FCF5B531C5AE
dc.identifier.sha1THVFCX53GINV7A22A2SPJQ4ALSBMVY2J
dc.identifier.tthDO2MN626H5XN7DMZ5Z4QMB72GLMYJTDXW5L3RRA


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record