Mostra i principali dati dell'item
Вакуумные технологические процессы и оборудование микроэлектроники
dc.contributor.author | Данилин Борис Степанович | |
dc.date.accessioned | 2016-02-22T12:35:03Z | |
dc.date.available | 2016-02-22T12:35:03Z | |
dc.date.issued | 1987 | |
dc.identifier.isbn | ||
dc.identifier.issn | ||
dc.identifier.uri | http://ir.nmu.org.ua/handle/GenofondUA/55152 | |
dc.description.abstract | Аннотация издательства: В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам, используемым для откачки химически активных газов; рассмотрены и сопоставлены основные виды насосов. | |
dc.language.iso | Russian | |
dc.publisher | Машиностроение | |
dc.subject | Техника | |
dc.subject | Technique | |
dc.subject.ddc | ||
dc.subject.lcc | ||
dc.title | Вакуумные технологические процессы и оборудование микроэлектроники | |
dc.type | other | |
dc.identifier.aich | WY2WFAT5K3VTR6TDWLZFDUVAYOZTNEOX | |
dc.identifier.crc32 | C6567987 | |
dc.identifier.doi | ||
dc.identifier.edonkey | 64BCC58CB418D3E40ED1DD85E751A391 | |
dc.identifier.googlebookid | ||
dc.identifier.openlibraryid | ||
dc.identifier.udk | ||
dc.identifier.bbk | ||
dc.identifier.libgenid | 51141 | |
dc.identifier.md5 | 807F147407832BCF9678FCF5B531C5AE | |
dc.identifier.sha1 | THVFCX53GINV7A22A2SPJQ4ALSBMVY2J | |
dc.identifier.tth | DO2MN626H5XN7DMZ5Z4QMB72GLMYJTDXW5L3RRA |
Files in questo item
Questo item appare nelle seguenti collezioni
-
Libgen [81666]