Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Abstract

Рассмотрены основные составляющие фотолитографического ме┐тода: светочувствительные материалы, собственно технология фото┐литографии, применяемое современное оборудование.Книга рассчитана на широкий круг читателей. Технологи, знако┐мые с фотолитографией, найдут в ней практические указания и новые сведения. Инженеров, работающих в других областях, могут заинте┐ресовать современные возможности и перспективы развития фотолито┐графии.