Фото-, электроно- и рентгенорезисты

Abstract

Посвящена вопросам получения фото-, электроно- и рентгенорезистов и применения их в технологии микроэлектронных изделий. Приведена классификация регистрирующих защитных материалов, изложены основные химические и физико-химические принципы их создания. Рассмотрены свойства различных типов фото-, электроно- и рентгенорезистов и особенности их применения, а также перспективы дальнейшего развития техники защитных материалов.Для инженеров-технологов, специализирующихся в области химической технологии микроэлектроники.