• русский
    • українська
    • English
    • Deutsch
    • español
    • italiano
  • English 
    • русский
    • українська
    • English
    • Deutsch
    • español
    • italiano
  • Login
View Item 
  •   DSpace Home
  • Genofond
  • Libgen
  • View Item
  •   DSpace Home
  • Genofond
  • Libgen
  • View Item
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Thumbnail
View/Open
91addf2c44d524340119a9dc87df4bef.djvu (1.241Mb)
Date
1978
Author
Пресс Ф.П.
Metadata
Show full item record
Abstract
Рассмотрены основные составляющие фотолитографического ме┐тода: светочувствительные материалы, собственно технология фото┐литографии, применяемое современное оборудование.Книга рассчитана на широкий круг читателей. Технологи, знако┐мые с фотолитографией, найдут в ней практические указания и новые сведения. Инженеров, работающих в других областях, могут заинте┐ресовать современные возможности и перспективы развития фотолито┐графии.
URI
http://ir.nmu.org.ua/handle/GenofondUA/58705
Collections
  • Libgen [81666]

DSpace software copyright © 2002-2016  DuraSpace
Contact Us | Send Feedback
Theme by 
Atmire NV
 

 

Browse

All of DSpaceCommunities & CollectionsBy Issue DateAuthorsTitlesSubjectsThis CollectionBy Issue DateAuthorsTitlesSubjects

My Account

LoginRegister

DSpace software copyright © 2002-2016  DuraSpace
Contact Us | Send Feedback
Theme by 
Atmire NV