| dc.contributor.author | Пресс Ф.П. | |
| dc.date.accessioned | 2016-02-22T15:34:34Z | |
| dc.date.available | 2016-02-22T15:34:34Z | |
| dc.date.issued | 1978 | |
| dc.identifier.isbn | | |
| dc.identifier.issn | | |
| dc.identifier.uri | http://ir.nmu.org.ua/handle/GenofondUA/58705 | |
| dc.description.abstract | Рассмотрены основные составляющие фотолитографического ме┐тода: светочувствительные материалы, собственно технология фото┐литографии, применяемое современное оборудование.Книга рассчитана на широкий круг читателей. Технологи, знако┐мые с фотолитографией, найдут в ней практические указания и новые сведения. Инженеров, работающих в других областях, могут заинте┐ресовать современные возможности и перспективы развития фотолито┐графии. | |
| dc.language.iso | Russian | |
| dc.publisher | | |
| dc.subject | Техника\\Электроника | |
| dc.subject | Technique\\Electronics | |
| dc.subject.ddc | | |
| dc.subject.lcc | | |
| dc.title | Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем | |
| dc.type | other | |
| dc.identifier.aich | D7OIU4GRVMVWMD2IGG7OS5VICA7SJWG6 | |
| dc.identifier.crc32 | 4190B922 | |
| dc.identifier.doi | | |
| dc.identifier.edonkey | 2DF8C37C7BCC12C86715D71B6275F5C7 | |
| dc.identifier.googlebookid | | |
| dc.identifier.openlibraryid | | |
| dc.identifier.udk | | |
| dc.identifier.bbk | | |
| dc.identifier.libgenid | 1212514 | |
| dc.identifier.md5 | 91addf2c44d524340119a9dc87df4bef | |
| dc.identifier.sha1 | ZGWJDKTKY44HJCP7F2ZKKVWLSJNZJBJH | |
| dc.identifier.tth | ICWITBTGYW5KXSLWVFT5YWDAE676YV3Z3UQXDFA | |
